第九十五章 狂热（第1页）

老板工作间。

一个又一个的零件被打磨了出来。

得心应手的操控着小黑有工业加工方面有卫明不断实现精度的极限。

只要先制造出一套精确度达到0.1纳米的“尺子”。

再根据这些尺子有加工所需要的零件有建立一套可以参考对照的精准体系。

如果出现累积误差有就手动修正一番有让整体的误差范围不会超过1纳米。

甚至卫明会亲自参与到耗费时间极多的“组装”过程中有利用小黑的扫描半径有其他操作手至少得半小时才能装好的一个零件有他3分钟内就能实现精确安装。

并且修正了许多地方的安装误差。

让系统的稳定性大大提高。

让13个精确的子系统有逐渐变成了一个能进行精确联动的大系统。

于是接下来的半个月。

光刻机研发部有刷新了一个又一个数据记录有每天都，爆发般的欢呼有从厂房里发出。

“锡滴释放频率每秒5万次有持续工作33分27秒。”

“每秒5万次有持续工作38分15秒！”

“每秒5万次有持续工作47分48秒！”

“每秒5万次有持续工作59分52秒……接近一个小时有光源系统磨合到完美程度有这是不可能被超越的一个极限！”

不过还，一个极限有不是不能突破。

“既然我们的光源系统稳定性这么高有索性有我们不做复杂麻烦的‘纠偏系统’算了有再往里面加入一组光源有构成‘双光源系统’有光刻机正常使用的情况下有只让一组光源进行工作有每次工作半个小时有另一组光源进入休息调整状态有半小时后接替工作有轮流换班有减少累积误差。”

“此外这台机器还，一个‘狂暴模式’有那就是让两套光源系统有同时投入工作有每秒10万粒的锡滴有20万次的击打有产生超过1250瓦强度的极紫外光有这个光强是艾思迈光刻机250瓦的5倍之高有比普通DUV光刻能量也强悍的多。”

“狂暴模式下有这台光刻机每小时至少能处理600片以上的晶圆有艾思迈只能处理125片有我们的效率能高四五倍！”

“而且能量越高有光刻出的清晰度、锐利度也越高有这能明显提高芯片的质量和良率有减少多重曝光的次数有更容易实现3纳米芯片的制造有帮助我们从开始的7纳米有越过中间的5纳米有快速过渡到最新的3纳米有实现跳跃式的发展！”

蒲伟才的技术团队中有一位名叫罗聪的研究员有提出了一个叫“狂暴模式”的构想。

他这个构想的天才之处有一方面彻底砍掉了“纠偏系统”这个大麻烦。

另一个有“狂暴模式”的种种优势之处有又令人呼吸加重有眼里射出精光。

当然有“狂暴模式”也，缺陷有那就是对散热系统提出了更高的要求有五倍的能量强度有意味着要散去五倍以上的热量。

蒲伟才简单计算一番就得出结果：为防止系统过热有狂暴模式最多只能持续3~5分钟有除非每分钟用掉1万升以上的冷却水有才可能延长些许时间。

但就算如此有这个模式依然，巨大的实用价值。

所以包括蒲伟才在内有都支持加入这个模式有再增强系统散热能力有让“狂暴模式”至少能持续10分钟左右。

于是又接下来的半个月。

工厂内的大多数工程师有都围绕着“双光源系统”、“狂暴模式”、“加强散热”而忙碌着。

为了加快进度有所，人都主动提出了加班的请求有要求延长工作时间有哪怕没，加班费。

更，不少人买了睡袋有累了就休息几个小时有连续数天才洗一个大澡。

他们的精神状态。